导电通道。

薄膜沉积采用的是二氧化硅或多晶硅，也就是常说的pn结，这方面天和电子已经有相关的技术，所以华为直接按照以有标准进行掺杂然后通过气体沉积法，将其沉积到表面就成，而其制作水平相比起溅射法相对要简单一些。

薄膜沉积完成以后，再涂覆一层聚甲基丙烯酸甲酯光刻胶，这也是当下新中国化学技术条件下能够生产出来的唯一光刻胶，该化学材料1931年就已经制造了出来，因此自己造还是买都不是问题。

一套工艺下来，已经花去了整整三天的时间，接着硅片再次被转移到光刻研究所，开始第二次光刻，由于光刻机的刻蚀深度有限，这一次的光刻需要增大光源功率，因此采用了60瓦紫外线光源的光刻机用新的掩膜版进行光刻，形成半导体电路图形，而这对于定位精度、光刻技术参数的要求更高，--不小心就会直接前功尽弃。

最后十块硅片完成了二次光刻，又是一套清洗工艺，-番检查下来，十块硅片中，只用一块勉强合格，其它的问题后续再来分析，现在要做的是涂绝缘体，而后手工进行元器件的堆叠，是的就是手工堆叠，因为目前没有这样的机器，甚至元器件都是由微电子研究所根据功能需要临时制作的。

1956年5月5日，劳动节后的第四天，华为半导体研究所里，世界上第一块真正意义上的集成电路诞生，它比美国基尔1958年的集成电路先进了整整一个半时代，达到了六十年代中后期的水平。

集成电路研究所里，王守觉、林兰英、夏培肃、吴良有、唐九华以及华为总经理何光远，还有一群研究室里的研究员，大家将王守觉围在中间，静静的等待着。

只见王守党重重的呼了一口气，而后戴上了手术用皮质手套，小心的将硅晶片放到了测试架上，拿起指针式万用表的测笔，靠近硅片的引脚开始了测量，只见随着他的动作，万用表上的指针不断的摇晃，一连将所有引脚全部测完，而后又重复了三遍，这才放下了测笔。

他扭过头对身旁围着的人，淡淡的说道:”导电无异常，换人测试。”

林兰英、夏培肃、唐九华到最后何光远亲自上手，五个人反复测试了几遍，结果显示导电没有任何问题，随着何光远一句:“导电无异常。”顿时研究室里响起了震耳欲聋的掌声和欢呼声。

“成功了!”“我们成功了!”“祖国万岁!”一阵阵欢呼声响了起来。

此时此刻，不管是唐九华还是王守觉，两人浑身都在微微的颤抖着，这种激动的心情，也许不在这个行业的人不明白，但在这个实验室里的所有人都知道，这意味着什么，它预示着，人类在半导体和电子学领域迎来了全新的时代。

“我这就上报集团总部!“何光远激动得双颊通红。

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